為了研究電極表面電流密度的分布情況、減少或消除擴散層等因素的影響,電化學(xué)研究人員通過(guò)對比各種電極和攪拌的方式,開(kāi)發(fā)出了一種高速旋轉的電極,由于這種電極的端面像一個(gè)盤(pán),所以也叫旋轉圓盤(pán)電極(rotating disk electrode,RDE),簡(jiǎn)稱(chēng)旋盤(pán)電極,還叫轉盤(pán)電極。還有基于這種電極進(jìn)一步改進(jìn)了的旋轉圓環(huán)電極等,可以測量更為復雜的電極過(guò)程的電化學(xué)參數。
旋轉圓盤(pán)電極是電極理論與流體動(dòng)力學(xué)結合的產(chǎn)物,因此它也稱(chēng)為流體動(dòng)力學(xué)電極。其工作原理的基本要點(diǎn)是:物質(zhì)傳遞和電流密度受控于電化學(xué)活性物質(zhì),而電化學(xué)活性物質(zhì)的運動(dòng)是按流體動(dòng)力學(xué)規律進(jìn)行的。
跟固態(tài)靜電極相比具有以下優(yōu)勢:
1、消除濃差極化;
2、被拋光的電極表面,保持幾何形狀和尺寸不發(fā)生變化;
3、可簡(jiǎn)化實(shí)驗裝置(如攪拌系統);
4、可準確地表征已知量與被測量之間關(guān)系,制作簡(jiǎn)單,操作方便。
使用方法:
在測量時(shí)電極浸入測量溶液不宜太深,一般以2~3mm為宜。電極的轉速要適當,太慢時(shí)自然對流起主要作用,太快時(shí)則會(huì )出現湍流,不能得到有效參數。要求在旋轉過(guò)程中保證電極表面出現層流狀態(tài)。
旋轉圓盤(pán)電極的極限擴散電流密度公式,由V.G.Levich(前蘇聯(lián))于1942年提出,Levich方程如下,極限擴散電流iL是研究電化學(xué)動(dòng)力學(xué)的重要參數。如果在不同轉速條件下測得iL值,作iL-ω1/2圖,可求出D;用標準溶液標定后可測反應物種的濃度,常用于定量分析。
旋轉圓盤(pán)電極是一款定速旋轉系統,集成了電化學(xué)領(lǐng)域的理念和技術(shù),助力與高??蒲性核?。該設備的圓盤(pán)電極與垂直于它的轉軸同心并具有良好的軸對稱(chēng);圓盤(pán)周?chē)慕^緣層相對有一定厚度,可以忽略流體動(dòng)力學(xué)上的邊緣效應;同時(shí)電極表面的粗糙度遠小于擴散層厚度。